氧化钨薄膜电致变色机理的探讨

研究磁控溅射生成的氧化钨薄膜处于电解液系列中的循环伏安特性,充电电流及光学特性.采用配体场理论来解释氧化钨薄膜在电场作用下,锂离子注入引起薄膜变色的现象,认为注入的锂离子破坏了薄膜界面层内氧化钨分子的八面体结构的对称性,在内部静电场和外部电场的共同作用下,钨离子d轨道的五重简并能级分裂,从而使得薄膜对可见光产生d-d吸收,导致氧化钨薄膜变色.     

Fabrication and characterization of mussel-inspired layer-by-layer assembled CL-20-based energetic films via micro-jet printing

Three-dimensional (3D) micro-jet printing is a droplet deposition technique based on liquid-phase materials. To improve the deposition density and performance of energetic films with micro/nanoscale on an energetic chip, polydopamine (PDA) was utilized as a linker bridge to induce the in-situ self-assembly of CL-20-based energetic film via 3D micro-jet printing. The self-assembly was extensively characterized by confocal laser scanning microscopy (CLSM), SEM, power-XRD, XPS, and DSC. The performance of the self-assembled film was verified by the mechanical properties and detonation properties, and a possible self-assembly mechanism in the layer-by-layer micro-jet printing process was proposed. The results indicated PDA-induced self-assembly enhanced the physical entanglement between the binders and energetic crystal, reduced the porosity from 15.87% to 11.28%, and improved the elastic modulus and the detonation performance of the CL-20-based energetic film. This work proposes a novel and promising energetic film design and fabrication strategy to enhance the interaction between the energetic composite layers in the micro-jet printing process.     

光纤光栅反射率及相位响应的计算

采用分层介质膜的等效模型 ,计算了均匀光纤光栅及线性啁啾光栅的反射谱、透射谱及反射相位跃变 ,结果与采用耦合模理论计算的结果相吻合 ,表明这是分析光纤光栅的光反射特性的一种有效的新方法 .     

表面工程中膜基结合应力的线法分析

首次导出了平面问题两种介质分界线为离散线的线法基本方程;三维问题离散线分布于界面内的技法基本方程;并采用线法对拉伸法试验中膜基最大剪切应力问题进行了计算,指出了原有结果中的不足.     

平显PDU光学系统下组合玻璃镀负滤光膜对字符、背景亮度的影响

本文依据计算光束亮度的理论,分析论证了平显PDU 光学系统下组合玻璃镀负滤光膜后,对字符、背景亮度产生的影响,并以大量的计算数据,得出了平显PDU 在采用双组合玻璃的条件下,下组合玻璃能否采用负滤光膜的结论。     

战术电磁导轨炮用电源初探

本文提出战术电磁导轨炮对电源的要求,依此分析了四种高功率脉冲电源特性。评述了它们在战术上的可用性.     

实现任意全极点有界实函数的低灵敏度SCF的状态空间法

1 引言 Leapfrog sCF具有低灵敏度特性。但在低通情况下,由于开关电容模拟输人电阻的近似性,使得Lcapfrog scF的灵敏度特性变差二。文献[2贻出了设计低灵敏度scF的状态空间法,描述了满足低灵敏度和零灵敏度的矩阵条件,·但未给出寻求满足一定条件的变换矩阵的系统方法。本文在文献口汹基础上,导出了具     

磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究

用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律。研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5～2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小。X-射线衍射结果表明:制备态的SmCo薄膜为非晶结构,500℃真空热处理后,薄膜中出现少量的微晶SmCo5化合物。磁性能测试表明:制备态SmCo薄膜的矫顽力随薄膜厚度的增加而显著下降;真空热处理过程中,薄膜结构缺陷及成分起伏减少,薄膜的矫顽力和饱和磁场强度显著下降,初始磁导率和饱和磁化强度显著增加。     

溶胶—凝胶法制备SiO2气凝胶薄膜溶胶粘度的研究

用低介电常数介质薄膜代替传统的SiO2薄膜是减小ULSI中互连延迟、串扰和能耗的有效方法.SiO2气凝胶薄膜因具有低介电常数、低密度、高热稳定性等性能而成为ULSI中金属间介质的理想材料.以正硅酸乙酯为原料,采用酸/碱两步溶胶-凝胶法结合匀胶和超临界干燥等工艺在硅片上成功制备了SiO2气凝胶薄膜.研究了不同配比的SiO2溶胶粘度随时间的变化;确定了适于匀胶的溶胶的粘度范围为9～15mPa*s;发现溶胶粘度在9～15mPa*s的时间随溶剂异丙醇(IPA)用量的增加和NH4OH的减少而延长.     

WDM光纤通信用窄带滤光片膜系补偿膜层的最优化设计

在WDM光纤通信系统中充当分波 合波器的全介质F B型多腔窄带滤光片的膜层层数较多,一般采用规整膜系结构,其各层膜的光学厚度均为监控波长的1 4整数倍.但仅采用规整膜层的膜系往往不能完全满足设计指标.因此,提出一种在基本满足设计指标的多层规整膜系上叠加少量非规整膜层的膜系设计方法,其中非规整膜层的光学厚度是在计算机上借助最优化方法寻优而得.